MOMBE:金属氧化物分子束外延
“金属氧化物分子束外延”(Metal Oxide Molecular Beam Epitaxy)通常缩写为MOMBE,这种缩写形式便于学术和工程文档中的高效书写与交流。该技术常见于高端科研机构及军工领域,主要用于制备高质量的金属氧化物薄膜,在半导体材料和功能器件研发中具有重要应用价值。
Metal Oxide Molecular Beam Epitaxy具体释义
Metal Oxide Molecular Beam Epitaxy的英文发音
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