BIM：二元强度掩模

“二元强度掩模”常简称为BIM（Binary Intensity Mask），这一缩写形式便于快速书写与使用，尤其在电子工程、图像处理等学术与科技领域应用广泛。该术语主要用于描述一种基于二值化处理的光强控制或信号识别方法。

Binary Intensity Mask具体释义

  • 英文缩写：BIM
  • 英语全称：Binary Intensity Mask
  • 中文意思：二元强度掩模
  • 中文拼音：èr yuán qiáng dù yǎn mó
  • 相关领域： bim 电子

Binary Intensity Mask的英文发音

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