LPCVD：低压化学气相沉积

低压化学气相沉积（Low Pressure Chemical Vapor Deposition），常缩写为LPCVD，是一种在低压环境下通过化学反应在基片表面沉积薄膜的工艺。该技术广泛应用于微电子、半导体制造和材料科学等领域，具有成膜均匀、致密性好等优点，是集成电路和功能器件制备中的关键工艺之一。使用缩写LPCVD便于学术交流与文献书写，提高专业文档的简洁性和可读性。

Low Pressure Chemical Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：LPCVD
  • 英语全称：Low Pressure Chemical Vapor Deposition
  • 中文意思：低压化学气相沉积
  • 中文拼音：dī yā huà xué qì xiāng chén jī
  • 相关领域： lpcvd 电子

Low Pressure Chemical Vapor Deposition的英文发音

例句

  1. Synthesis of Carbon Nanotubes by Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD) and Their Applications
  2. 碳纳米管的低压化学气相沉积(LPCVD)法制备及其应用研究
  3. Nano-sized silicon films with large area were prepared by normal Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD) method.
  4. 利用普通低压化学气相沉积(LPCVD)技术在玻璃衬底上制备了大面积的纳米硅薄膜。
  5. In this paper CNT film was deposited on metal substrate by low temperature and low pressure chemical vapor deposition ( CVD ). Field emission cathode was made by thin-film and thick-film process.
  6. 本文采用低温低压化学气相沉积(LPCVD)（CVD）方法在金属衬底上直接生长碳纳米管薄膜，并分别运用薄膜和厚膜工艺，制作场发射阴极。
  7. Acetylene Flow Rate Effect on Morphology and Structure of Carbon Nanotube Thick Films by Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD)
  8. 碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响
  9. Growth Rate and Surface Morphology of Silicon Nitride Thin Films by Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD)
  10. 低压CVD氮化硅薄膜的沉积速率和表面形貌

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