OPC：光学临近修正

“光学临近修正”是计算机硬件领域中的一项关键技术，其英文全称为“Optical Proximity Correction”，通常缩写为OPC。这一术语在半导体制造和集成电路设计中被广泛应用，主要用于优化光刻工艺中的图形转移精度，避免因光学衍射效应导致的图形失真。使用缩写OPC可以简化书写和日常交流，提高技术文档和沟通的效率。

Optical Proximity Correction具体释义

  • 英文缩写：OPC
  • 英语全称：Optical Proximity Correction
  • 中文意思：光学临近修正
  • 中文拼音：guāng xué lín jìn xiū zhèng
  • 相关领域： opc 硬件

Optical Proximity Correction的英文发音

例句

  1. Firstly, the optical proximity correction method with low resolution acoustooptic modulator has been carried out through experimental study.
  2. 首先，对所提出的声光调制器低分辨力时邻近效应的校正方法进行了实验验证。
  3. Applications are discussed and interaction with optical proximity correction ( OPC ), aberration, and other imaging factors are addressed.
  4. 讨论了方形照明的用途，并确定了它与光学邻近校正（OPC）、像差及其它成像因素的关系。
  5. A New Method for Optical Proximity Correction(OPC)
  6. 光学邻近效应校正的新方法
  7. Through the use of phase-shift masks ( PSM ), optical proximity correction ( OPC ), and other resolution enhancement techniques ( RETs ), optical lithography have been able to fabricate features smaller than the wavelength of light used to create them.
  8. 通过移相掩膜、光学临近校正和其他分辨率增强技术，光学光刻实现了小于入射光波长特征线宽的制造。
  9. For optical lithography, both phase-shift and optical proximity correction technology are of-ten used, it is cheap, but it is hard to fabricate deep-submicron gate;
  10. 对于光学光刻技术，通常需要采用移相和光学邻近效应校正技术，它的制作成本低，但是很难用于制作深亚微米T形栅；

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